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Wolfgang Scheibenzuber, Christian Müller
Solarzellen Wolfgang Scheibenzuber, Christian Müller
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Überblick Einleitung - Historie - Entwicklung - Sonneneinstrahlung
Festkörperphysikalische Grundlagen - Bandstruktur Halbleiter Absorbtion von Licht Der p-n-Übergang Anwendung auf Solarzelle Solarzellen auf Silizium-Basis - Konventionelle Solarzellen Dünnschicht-Solarzellen
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Einleitung - Historie 1839: Entdeckung des photovoltaischen Effekts durch A.E. Becquerel 1873: Photoleitfähigkeit von Selen 1883: Erste Photozelle aus Selen 1899: Nachweis des Photoeffekts durch Lennard 1905: Erklärung durch Einstein mittels Quantentheorie 1947: Entdeckung des p-n-Übergangs durch Shockley, Brattain, Bardeen 1953: Entwicklung der ersten Solarzelle aus Silizium bei Bell Labs durch Chaplin, Fuller, Pearson Wirkungsgrad: 4 – 6% 1958: Erster praktischer Einsatz im Satelliten Vangard I 1976: Gründung des DOE in den USA, Solarzellen auch für terrestrische Energieversorgung
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Einleitung - Entwicklung
Exponentieller Zuwachs während der letzten Dekaden MWp : MegaWatt peak, Leistung bei „Standardbedingungen“, durchschnittliche Leistung: ~20% MWp
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Einleitung - Kosten Wirtschaftliche Energieversorgung erreicht bei ~ 2 cent/kWh, entspricht 0,40 US$/Wp BOS: balance-of-system costs, Kosten für nicht-photovoltaische Teile der Solaranlage Shockley-Queisser Limit: Grenze für Wirkungsgrad bei thermischer Relaxation
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Einleitung - Sonneneinstrahlung
Gesamte eingestrahlte Leistung auf Erde: TW (= 13000x momentaner Stromverbrauch) Absorbtion von Licht in Atmosphäre ist abhängig vom zurückgelegten Weg („air mass AMx“)
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Einleitung - Funktionsprinzip
1.Lichtabsorbtion 2.Anregung 3.Bewegung der Ladungsträger 4.Keine Rekombination 5.Ladungstrennung 6.Elekroden
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Überblick Einleitung - Historie - Entwicklung - Sonneneinstrahlung
Festkörperphysikalische Grundlagen - Bandstruktur Halbleiter Absorbtion von Licht Der p-n-Übergang Anwendung auf Solarzelle Solarzellen auf Silizium-Basis - Konventionelle Solarzellen Dünnschicht-Solarzellen
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Grundlagen - Bandstruktur
Überlapp der Elektronenorbitale Ausbildung von Energie-Bändern, Bandlücken Anordnung der Atome zu periodischem Kristallgitter (hier: Silizium)
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Grundlagen - Bandstruktur
Bandstruktur gibt Energie-Impuls-Beziehung für Elektronen Elektronen sind Fermionen Jeder Energie-Zustand nur einfach besetzbar Volle und leere Bänder tragen nichts zum Stromfluss bei
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Grundlagen - Bandstruktur
Beispiele:
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Grundlagen - Halbleiter
Metall: oberstes Band nur teilweise besetzt Leitfähigkeit groß Halbleiter/Isolator: Bänder, die Elektronen enthalten sind vollständig besetzt Leitfähigkeit gering Unterschied: Größe der Bandlücke, bei Halbleitern thermische Anregung von Ladungsträgern möglich EF: Chemisches Potential
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Grundlagen - Halbleiter
Dotierung: Einbringen von Fremdatomen zur Erhöhung der Ladungsträgerkonzentration Dadurch Veränderung des chem. Potentials in Richtung LB (n-Dotierung, mehr Elektronen) bzw. VB (p-Dotierung, mehr Löcher) Zwei Arten von Ladungsträgern: Elektronen und Löcher (da nicht gefülltes Valenzband ebenfalls Strom trägt) fehlendes Elekron im Valenzband Loch
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Grundlagen – Absorbtion von Licht
Absorbtion eines Photons möglich, wenn ℏ > Eg Photonen geringerer Energie werden transmittiert Elektron wird aus Valenzband in Leitungsband angeregt Elektron-Loch-Paar Umgekehrter Effekt: Rekombination
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Grundlagen – Absorbtion von Licht
Unterscheide direkte und indirekte Übergänge: direkt: Ohne Impulsübertrag, hohe Wahrscheinlichkeit indirekt: Impulsübertrag durch Phonon, geringe Wahrscheinlichkeit Direkter Übergang (z.B. GaAs) Indirekter Übergang (z.B. Ge)
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Grundlagen – Absorbtion von Licht
Absorbtion im Festkörper folgt exponentiellem Gesetz I = I0e-x Absorbtionskonstante ist abhängig von Photon-Energie und Art des Übergangs
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Grundlagen – p-n-Übergang
Kontaktiere p-dotierte mit n-dotierter Schicht Chemisches Potential unterschiedlich auf beiden Seiten Ladungsträgerdiffusion Raumladungszone, elektrisches Feld
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Grundlagen – p-n-Übergang
Gleichgewicht: Diffusionsstrom und Driftstrom kompensieren sich Vbi: Eingebautes Potential durch Raumladungszone
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Grundlagen – p-n-Übergang
Verhalten bei angelegter Spannung: „Vorwärts-Schaltung“: Diffusions-strom verstärkt „Rückwärts-Schaltung“: Diffusions-strom geschwächt Driftstrom konstant
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Grundlagen – p-n-Übergang
Kennlinie des p-n-Übergangs:
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Grundlagen - Solarzelle
Driftstrom hängt in erster Linie von Minoritätsladungsträgerdichte ab Eingestrahlte Photonen regen e-h-Paare an Mehr Minoritätsladungsträger, die im E-Feld der Raumladungszone getrennt werden und abfließen Leistung kann abgegriffen werden, Füllfaktor: Pmax/(UmaxImax)
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Grundlagen - Solarzelle
Verluste: Nicht alle einfallenden Photonen werden absorbiert Angeregte Ladungsträger können rekombinieren Quantenausbeute: = i / ejph (bei Si: bis zu 90%) Thermalisierungsverluste: höhere Zustände in Bändern relaxieren spontan Widerstände reduzieren nutzbare Leistung
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Grundlagen - Zusammenfassung
Energiebänder im Halbleiter durch Bandlücke getrennt Photonabsorbtion regt Elektron vom Valenzband ins Leitungsband an Elektron-Loch-Paar p-n-Übergang: Raumladungszone durch Ladungsträgerdiffusion Elektronen und Löcher werden im elektrischen Feld der Raumladungszone getrennt und fließen ab
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Überblick Einleitung - Historie - Entwicklung - Sonneneinstrahlung
Festkörperphysikalische Grundlagen - Bandstruktur Halbleiter Absorbtion von Licht Der p-n-Übergang Anwendung auf Solarzelle Solarzellen auf Silizium-Basis - Konventionelle Solarzellen Dünnschicht-Solarzellen
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Si-Solarzellen - konventionell
Konventionelle Solarzelle aus einkristallinem oder polykristallinem Silizium (c-Si bzw. p-Si):
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Si-Solarzellen - konventionell
Herstellung: Metallurgisches Si: Quarzsand SiO2 + C → Si + CO2 „electronic grade“ Si: CVD-Abscheidung von SiHCl3 Polykristallines Si (Korngröße: ~1cm) Czochralski-Verfahren: Keimkristall aus Si-Schmelze ziehen Einkristallines Si (Verunreinigungen < 1018 cm-3) p-n-Übergang durch Eindiffundieren von Phosphor Elektrodenauftragung durch Siebdruck mit Al-Paste (800°C)
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Si-Solarzellen - konventionell
Herstellung: Wirkungsgrad: Anteil an der Produktion: Amortisation: (energetisch) Degradation: Einkristallin vs. teuer 15% - 17% (kommerziell) 24% (Labor) 30% (2001) 5 - 6 Jahre Polykristallin billiger, da Czochralski Prozess entfällt 13% - 15% (kommerziell) 20% (Labor) (Grund: „dangling bonds“ und Verunreinigungen) 57% (2001) 4 - 5 Jahre 10% - 13% in 20 – 25 Jahren
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Si-Solarzellen - Dünnschicht
Aufbau: Merkmale: pin-Design: größere Raumladungszone amorphes Si: bessere Absorbtion wg. direktem Übergang (andere Materialien möglich!) stab. Wirkungsgrad: 6% (kommerziell) 9% (Labor) Starke Degradation im ersten Jahr (25%) Energetische Amortisation schon nach 3 Jahren
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Si-Solarzellen - Dünnschicht
Herstellung: Aufbringung des TCO auf Glassubstrat durch Magnetronsputtern (Ionenbeschuss) PECVD (plasma-enhanced chemical vapor deposition) von a-Si, Zusetzen von Diboran oder Phosphin für Dotierung, dabei Wasserstoff-Einbau (a-Si:H) Elektrodenaufbringung durch Siebdruck polykristallines Si durch andere Prozessführung möglich, aber: schlechtere Absorbtion light-trapping nötig Vorteile: Modulgröße nicht beschränkt durch Si-Wafer Weniger Energieaufwand Kostengünstigere Herstellung
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Si-Solarzellen - Zusammenfassung
Konventionelle Solarzellen aus mono- und polykristallinem Si: Wirkungsgrad bis 25% Amortisationszeit: 4 – 6 Jahre Dünnschicht-Solarzellen aus amorphem Si: Wirkungsgrad nur bis ~10% Herstellung billiger Amortisationszeit: 3 Jahre
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