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Halbleiterbauelemente
Kontakt Metall-Halbleiter Gleichrichter (Schottky-Kontakt oder Schottky-Barriere) Ohmscher Kontakt p – n Gleichrichter Zener Diode Photodiode (Solarzelle) Tunneldiode Transistor Andere Elemente auf der Basis von Halbleitern (für hybride Schaltkreise) Widerstand Isolator Kondensator
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Negativ/positiv geladene Oberfläche
Bänderschema von einem n-Typ-Halbleiter mit negativ geladener Oberfläche Bei der Oberfläche gibt es daher wenig freie Elektronen – die negative Ladung der Oberfläche stellt eine Potentialbarriere für Elektronen dar. Bänderschema von einem p-Typ-Halbleiter mit positiv geladener Oberfläche Bei der Oberfläche gibt es wenig „freie Löcher“ – die positive Ladung der Oberfläche stellt eine Potential-barriere für freie Löcher dar. Usus: die Kanten der Energiebänder werden verzerrt dargestellt, nicht die Fermi-Energie
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Kontakt: Metall und n-Halbleiter
Potentialbarriere Energiebänder von einem Metall und einem n-Typ-Halbleiter (ohne Kontakt) Die Fermi-Energien sind unterschiedlich Elektronen Energiebänder vom Metall und von einem n-Typ-Halbleiter Elektronen fließen ins Metall, bis sich die Fermi-Energien ausgleichen. Die Metalloberfläche lädt sich negativ auf. Dabei bildet sich eine Potentialbarriere. Im Gleichgewicht gibt es nur einen Diffusionsstrom (gleich in den beiden Richtungen)
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Kontakt: Metall und p-Halbleiter
Potentialbarriere Elektronen Energiebänder: Die Fermi-Energien sind unterschiedlich Energiebänder vom Metall und von einem p-Typ-Halbleiter Elektronen fließen in den Halbleiter, bis sich die Fermi-Energien ausgleichen. Die Metalloberfläche lädt sich positiv auf. Dabei bildet sich eine „negative“ Potentialbarriere. Im Gleichgewicht gibt es nur einen Diffusionsstrom (gleich in den beiden Richtungen)
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Austrittsarbeit Metalle Halbleiter Material [eV] Ag 4,7 Al 4,1
Ca 2,7 Cs 1,9 Cu 4,5 Fe 4,7 K 2,2 Li 2,3 Na 2,3 Ni 5,0 Zn 4,3 Halbleiter Material [eV] Diamant 4,8 Ge 4,6 Si 3,6 Sn 4,4
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Elektrische Ströme Diffusionsstrom Driftstrom – + U Metall Halbleiter
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Driftstrom Sperrrichtung
Die Potentialbarriere wird im äußeren E-Feld höher Hindernis für Elektronen Flussrichtung Die Potentialbarriere wird im äußeren E-Feld niedriger Beschleunigung der Elektronen
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Driftstrom Metall Halbleiter Halbleiter Metall Gesamtstrom
A … Fläche C … Konstanten T … Temperatur … Affinität … Austrittsarbeit kB … Boltzmann-Konstante V … externe Spannung Halbleiter Metall Gesamtstrom vergrößert
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Ohmscher Kontakt Elektronen Beispiel:
Al / Ge : Al > Si der Kontakt Al / Ge ist gut leitend Technologische Beispiele: Al / Si oder Al / SiO2 Al > Si der Kontakt Al / p-Si ist gut leitend der Kontakt Al / n-Si kann jedoch wie ein Gleichrichter funktionieren
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Ohmscher Kontakt : Al / n-Si
Tunnel-Effekt Elektronenstrom Metall n+-Schicht n-Halbleiter Die n+-Schicht muss schmal sein. Problem: Elektrotransport Übertragen von Atomen durch einen hohen Elektronenstrom Lösungen: Al Al + Cu, Al Al + Si Beschichtung mit Gold
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p-n Gleichrichter (Diode)
Diode unter Spannung Im Gleichgewicht (ohne externe Spannung)
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Elektrochemisches Potential
Diffusionsstrom Elektrochemisches Potential im Gleichgewichtzustand: … Das elektrochemische Potential der Elektronen hat im Gleichgewichtzustand (bei Stromlosigkeit) überall den gleichen Wert. Feldstrom
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p-n Gleichrichter (Diode)
Elektronen Löcher Potentialsprung Mit Spannung Ohne Spannung
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Halbleiterdiode (Gleichrichter)
U
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Die Sperrrichtung wird genutzt
Zener Diode Die Sperrrichtung wird genutzt Ionisationsprozess Lawinenartiger Anstieg des elektrischen Stroms Freie Elektronen sind im Spiel
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Photodiode (Solarzelle)
Eg Eg [eV] [m] Ge , ,8 Si , ,1 GaAs 1, ,83
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Tunnel Diode
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Transistor ohne externe Spannung
B E C 2 Potentialbarrieren Transistor ohne externe Spannung
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Transistor n p n Verstärker Potential-barriere
Beschleunigung im elektrischen Feld Verstärker
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Bauelemente in hybriden Schaltkreisen
Widerstand: Abhängigkeit der elektrischen Leitfähigkeit von der Dotierung im p-Bereich Kondensator: Andere elektrische Ladung im p- und im n-Bereich, dazwischen Isolator (Dielektrikum) Technologie Ausgangsmaterial: SiO2 Si Czochralski Methode (Si-Einkristalle) Diffusionsprozess: Diffusion von Phosphor (n) oder Bor (p) in Si. Maske – SiO2.
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