1 Dirk Wiedner e - -Strahltest für das äußere Spurkammersystem bei LHCb Amsterdam: G. van Appeldorn, Th. Bauer, E. Bos, Y. Guz, T. Ketel, J. Nardulli, A. Pellegrino, T. Sluijk, N. Tuning, P. Vankov, A. Zwart Dortmund: M. Nedos Heidelberg: S. Bachmann, T. Haas, J. Knopf, U. Uwer, Dirk Wiedner
2 Dirk Wiedner LHCb Spurstationen: p für geladene Teilchen
3 Dirk Wiedner Äußeres Spurkammersystem ionisierendes Teilchen
4 Dirk Wiedner Elektronik Verstärker TDC L0 Speicher Null- unter- drückung SchwelleFast Control L0 200 fC DAQ Zählraum ~100m FE-Box optischer Sender Elektronik-Servicebox Spannung / Steuerung
5 Dirk Wiedner Ziele des Strahltests Betrieb der Detektormodule mit der neu entwickelten Elektronik Messung der Spurauflösung mit minimal ionisierenden Teilchen Ermitteln eines Arbeitspunktes mit: guter Effizienz hoher Auflösung geringem Rauschen geringem Übersprechen
6 Dirk Wiedner Teststrahl Aufbau optische Empfänger- karte PC FPGA Fast Control Szintillator Modul 4 Slow Control Szintillator Modul 3Modul 2Modul 1 FE-Box Si-Teleskop e - -Strahl 6 GeV
7 Dirk Wiedner Teststrahl e - -Strahl 6 GeV
8 Dirk Wiedner Spurfindung t 0 -Kalibration der Driftzeiten r(t)-Relation durch Aufintegration ++ Spuranpassung mit Hilfe von 8 Lagen Zeit [ns] Einträge Zeit[ns] Radius[mm]
9 Dirk Wiedner Effizienz Effizienz vs. HV ,522,53 Effizienz Radius[mm] Effizienz [%]
10 Dirk Wiedner Spurauflösung vs. HV 2,9 fC Schwelle Auflösung [μm]
11 Dirk Wiedner Spurauflösung vs. Schwellen 2.9 fC5.6 fC
12 Dirk Wiedner Zusammenfassung System aus Strawdetektoren und neu entwickelter Elektronik funktioniert sehr gut Arbeitspunkt: HV = 1550 V, Schwelle 2.9 fC Effizienz > 98% Spurauflösung besser 180 μm Rauschen < 0.5% Übersprechen < 3%
13 Dirk Wiedner Mitwirkende Labore DAQ Si-Telescope, FE Electronic, Daten Analyse FE Electronic, Gas, Daten Analyse Detektorkammern Datennahme, Online Analyse Infrastruktur, Teststrahl 22
14 Dirk Wiedner Mitwirkende Amsterdam: G. van Appeldorn, Th. Bauer, E. Bos, Y. Guz, T. Ketel, J. Nardulli, A. Pellegrino, T. Sluijk, N. Tuning, P. Vankov, A. Zwart Dortmund: M. Nedos Heidelberg: S. Bachmann, T. Haas, J. Knopf, U. Uwer, D. Wiedner
15 Dirk Wiedner Rauschen 2.9 fC4.0 fC3.4 fC
16 Dirk Wiedner Übersprechen < 5% Übersprechen HV < 1600V U Schwelle > 700mV %